精密表面加工、CMP加工の品質評価、ウェハー検査に最適
製品概要
ナノセブンの光学構成は光ヘテロダイン⼲渉を測定原理として、2 ビーム間の位相差から得られる電気信号を解析して計測します。 設置に防振台や真空設備不要で、⾼さ分解能0.1nm 以下実現。消耗品もほとんどなく低ランニングコストになっています。
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XYステージ -
回転ステージ -
大型ステージ
特長
- 計測時間短縮︓Ra 数秒測定、歩留まり向上
- 低価格設定︓保守メンテも容易、消耗品ほとんど無し
- 防振台不要で設置場所選ばない
- ⾮接触測定︓レーザー光による完全⾮接触測定
- 広範囲計測︓⼤型試料でも多点⾃動計測可能
- 簡単操作︓測定・結果保存・レポート出⼒まで全⾃動
- ⾼分解能︓光ヘテロダイン⼲渉法による0.1nm 分解能
ソフト画面
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回転駆動ステージ -
計画実施画面 -
測定画面-1 -
測定画面-2 -
測定画面-3
基本仕様
| 計測方式 | 光ヘテロダイン干渉計測 |
|---|---|
| 高さ分解能 | 0.1nm |
| 基準高さ測定範囲 | 0.5nm ~ 300nm |
| 標準移動量 | X軸 25nm / Y軸25nm |
| 光源 | He-Ne 赤色レーザー(633nm) |
| 対物レンズ | 倍率：20X、NA0.4 |
| 本体外形寸法 | W313×D614×H428 |
| 本体重量 | 約 27kg |
| ソフトウェア | LabVIEW |
| クランプ治具 | 導電性PET 180mm✕180mm |
ナノ表面粗さ・形状計測器（PDF）
ナノセブンソフト画面（PDF）